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雙腔熱型原子層沉積機TALD-D系列
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產品描述
參數
嘉興科民電子設備技術有限公司的TALD系列原子層沉積系統是專門為集成電路前端制造先進工藝開發的薄膜沉積設備。系統采用國際先進成熟的設計思想和制造技術，充分考慮使用化學前驅體的安全性，設計與生產遵循世界半導體行業的相關的安全標準SEMI-S2，S8標準，以優良的品質，極高的可靠性，超長的使用壽命受到客戶的認可，產品性能和售后服務得到用戶一致好評。我司可提供滿足要求的前驅體源名稱、配置相應的前驅體源管路和裝置，并在交付時提供相應材料的工藝菜單。
獲取詳細的設備技術規格，請與我公司銷售部門聯系。
關鍵詞:
雙腔熱型原子層沉積機TALD-150D
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